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第23章 中微公司688012的前世今生（第4页）

aw

等，以满足市场对不同薄膜沉积工艺的需求。公司新开发的

lpcvd

薄膜设备和

ald

薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中

lpcvd

薄膜设备累计出货量已突破

100

个反应台，2024

年实现首台销售，全年设备销售约

1.56

亿元

。此外，公司的

epi

设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在

micro

-

led

和高端显示领域的

cvd

设备开发上也取得了良好进展，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场。

在规模扩张方面，中微公司积极推进生产基地的建设。2023

年，公司位于南昌的生产研发基地正式投入运营，上海临港生产和研发基地目前也已部分启用，位于临港滴水湖畔的总部大楼的建设工作也在稳步推进中。不久之后，中微公司的厂房和办公楼总面积将达到

45

万平方米，为公司进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平奠定坚实的基础。

现状：业务布局与市场地位

核心业务与产品

如今，中微公司已成长为一家在半导体设备领域极具影响力的企业，其业务涵盖刻蚀设备、cvd

设备、薄膜沉积设备等多个关键领域。

刻蚀设备作为中微公司的核心业务之一，在市场上表现卓越。公司的等离子体刻蚀设备技术处于国际先进水平，已成功应用于从

65

纳米到

5

纳米及更先进节点的制造工艺，能够满足

90%

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